上次的文章,我们介绍了晶圆表面的副反应,见文章:《电镀时晶圆表面有哪些副反应?》析氢反应,即氢气的析出,当阴极(晶圆)电流效率降低时,氢气的析出有许多坏处。
1,造成氢脆。
当析氢反应发生时,有一部分氢原子不会直接逸出,而是渗入到金属或硅基体晶格中。氢原子直径非常小,易进入金属或硅的晶格缺陷、位错或晶界中。这些氢原子在其中造成局部晶格膨胀、畸变,甚至引起残余应力。长期积累,会造成镀层脆化、强度降低。
2,产生针孔与麻点。
针孔,是一种贯穿性小孔。麻点,是一种表面小凹坑。镀层初期沉积时,氢气泡若附着在晶圆表面未及时脱离,金属会沉积在气泡四周,气泡后期消失后,会在该处留下贯穿性的细孔;显微镜下呈“慧星尾巴状”结构,形成针孔(pinhole)缺陷。
3,镀层“烧焦”。
“烧焦”是指在电镀层上出现:疏松、多孔、发黑、粗糙?的沉积物;外观上像是被“烧焦”一样,镀层质量严重下降。H?在晶圆表面被大量还原为氢气后,结果使这些部位的OH?浓度迅速升高;使晶圆表面呈碱性环境。金属离子(如Cu??、Ni??)易生成氢氧化物沉淀;这些非金属沉积物与金属共沉积,导致晶粒疏松、孔洞多、色泽发黑。
如有需要1.2L全套微型电镀槽如下图,可联系Tom。?欢迎加入Tom的半导体制造与先进封装技术社区,在这里会针对学员问题答疑解惑,上千个半导体行业资料共享,内容比文章丰富很多很多,适合快速提升半导体制造能力,目前有2500位伙伴,介绍如下: