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ALD工艺在半导体产品中的应用梳理
复旦微电子博士生常晟源带领实习生整理半导体行业数据,特别是ALD工艺的应用梳理,并分享了近十年覆盖八成半导体制造上游供应链的行业数据和大量原创行业景气度分析报告。
半导体综研
250
8小时前
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半导体设备行业“热”背后的冷思考
光刻机、离子注入机…这些关键设备国产化率仍不足5%。
夏珍
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09/12 08:24
与非观察
半导体设备
一文了解原子层沉积(ALD)薄膜制备技术
CVD?技术是一种在真空环境中通过衬底表面化学反应来进行薄膜生长的过程,较短的工艺时间以及所制备薄膜的高致密性,使?CVD?技术被越来越多地应用于薄膜封装工艺中无机阻挡层的制备。
半导体全解
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05/07 11:40
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薄膜技术
ALD(原子层沉积)与ALE(原子层刻蚀)的区别解析
ALD(Atomic Layer Deposition):原子层沉积是一种逐层生长薄膜的工艺。每个循环通过“自限性反应”,将化学前体逐层吸附并反应,沉积一个原子层的材料。目标:构建具有高均匀性、无缺陷、埃级厚度精度的薄膜。
老虎说芯
2499
01/17 08:40
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原子层沉积(ALD, Atomic Layer Deposition)详解
ALD 是一种精确的薄膜沉积技术,其核心原理是利用化学反应的“自限性”,以原子或分子层为单位逐层生长薄膜。具体过程包括:前体吸附:将化学前体(Precursor)引入反应室,前体分子在衬底表面发生吸附,形成单分子层。
老虎说芯
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01/15 08:45
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