扫码关注
电子硬件助手
元器件查询
717
扫码加入HDP Oxide 是利用高密度等离子体增强CVD技术（HDP-CVD）所沉积的二氧化硅介质薄膜。
HDP Oxide具有超高密度、致密膜层，高深宽比结构的优良填充能力等特点。
HDP Oxide的典型应用包括STI（Shallow Trench Isolation，浅沟槽隔离）填充、Passivation（钝化层）等，其沉积的薄膜密度高，缺陷少，填充能力强。
文章中如果有任何错误和不严谨之处，还望大家不吝指出，欢迎大家留言讨论。部分图片来源于网络，如有侵权，请联系小编删除。
人工客服专注于半导体及其下游应用，不定期分享技术、资讯、想法等
? 2010 - 2025 苏州710公海赌赌船官网欢迎您网络科技有限公司 版权所有
ICP经营许可证 苏B2-20140176 | 苏ICP备14012660号-6 | 苏公网安备 32059002001874号
扫码关注
扫码加入
电子硬件助手
元器件查询
芯耀
